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Luxium 1D/2D閃爍體陣列:醫療成像、安檢掃描及工業檢測應用

發布時間：2026-01-15 08:50:12 瀏覽：80

　　一、陣列應用概述

　　Luxium 閃爍晶體陣列主要用于輻射探測與成像，根據結構不同分為兩大類：

　　線性陣列(1D)：：應用于CT掃描(醫療/安檢/工業)、線掃描(安檢/工業)及各類科研項目。

　　二維陣列(2D)：提供成像能力，應用于CT掃描、核醫學(如SPECT/PET)、入口成像、X射線閃速放射照相、無損檢測及各種研究與空間應用。

　　應用與材料匹配表：

　　二、核心閃爍晶體材料特性與選擇

　　選擇材料需綜合考慮應用需求、光電讀出設備等因素。

　　三、陣列設計關鍵參數

　　設計陣列時需定義以下參數，以優化特定應用的性能：

　　1.材料：閃爍晶體類型。

　　2.像素尺寸：每個閃爍體像素的X和Y維度。

　　3.隔離/反射層類型與厚度：像素間的反射層材料及其厚度(間隙)。

　　4.節距：相鄰像素中心之間的距離(像素尺寸 + 間隙厚度)。

　　5.輻射厚度：陣列沿入射輻射方向的厚度(Z維度)。

　　6.背反射層厚度：通常應用于輻射入射面，將光反射回像素。

　　7.末端像素處理：末端晶體可能需要特殊反射層厚度。

　　常規可生產的最小像素尺寸指南：

　　四、陣列型號命名規則

		1D Array	2D Array
	Example of a Model Number	82.58X4.2A30/16/5.2CsI(Tl)	82.58X4.2A30/16x4/5.2x4CsI(Tl)
1	Active area length	82.58	82.58
2	Active area height	4.175	4.175
3	X-ray crystal depth (Z)	30	30
4	Number of pixelsIf the array is 2D,this is in the format [Pixels X][Pixels Y].	16	16x4
5	Pitch [X + Gap X(A)]If the array is 2D AND the pitch is different in X and Y,this is in the format [X+GapX(A)]x[Y+GapY(B)].	5.2	5.2x4
6	Scintillator	CsI(Tl)	CsI(Tl)
Note:All dimensions in mm

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